E光作用原理 E
E光作用原理
E光治疗头的核心技术主要有三点:双极射频+低能量脉冲光能+表皮冷却
E光技术中光能引导RF(射频)能量深入集中,配合表皮冷却技术,将射频推向真皮组织,在光能较低的情况下,针对整个真皮层和结缔组织发挥作用,刺激不同深度的胶原蛋白重新排列和生长;通过特殊的强光照射皮肤,使皮肤组织由内至外地改变,变得细腻、有光泽、有弹性的一种无创性技术。脉冲光治疗原理是通过低能量、较柔和的全光谱强光,直接作用于皮肤的异常血管色素基团,彻底去除皮肤的各种瑕疵;同时刺激胶原蛋白的增生,改善其质地和弹性。
治疗范围
1、祛皱/拉皮/提升:利用IPL和RF联合技术(E光),提供深部真皮层理想温升分布,针对整个真皮层和结缔组织发挥作用刺激不同深度的胶原增生重而达到治疗效果。
2、祛深层斑/祛表皮斑/嫩肤/祛红血丝:强脉冲光和射频同时释放能量,利用皮 肤对光能的选择性吸收引起靶组织和正常皮肤的阻抗差异让作用深度深的E能作用于表皮 和真皮层的各种病变组织,由于光能远远低于传统IPL设备,可在不损伤表皮的前提下,让表皮层真皮层各种色素性和血管性病变组织吸收更多的能量,更好的祛除这些病变组织,同时刺激深层及浅层胶原组织增生,恢复皮肤弹性,使皮肤得到整体改善。
3、痤疮治疗:E光可精确作用于皮脂腺和痤疮等靶组织,利用短波杀死痤疮丙酸杆菌,利用红外光和射 频的联合作用降低皮脂腺活性,收到令人振奋的效果。
4、脱浅细毛/脱粗黑毛:E光在输出强光的同时,还依靠作用深度达皮下15MM的射频能量直接作用于毛囊,而不单纯依赖毛干传导,所以对细小浅色,甚至金色、白色的毛发都有很好的效果。
技术参数
高频电磁波能量:0-30 J/c㎡
外形尺寸:520X520X1100mm
IPL脉冲能量:0-100 J/c㎡
光谱范围:480-1200mm
安全防护:利用阻抗在线测试
光斑尺寸:8×40mm
净重:55kg
电源要求:220VAC±10% 50Hz 10A
E光特点
中英文操作系统,自由切换,操作简洁
可拆卸光头(标配3个滤波片),更换耗材更方便
能实现三种工作模式:E光模式(RF+IPL)、冰电波拉皮模式(RF)、彩光嫩肤模式(IPL),一台设备当三台设备用
制冷开关可控,制冷量可调
8个触摸按键设置,功能更全面,操作更方便
治疗特点
无痛感、可无须涂抹麻醉药膏
采渐进式改善肤质
非破坏性,采用色素凝结原理
几无反黑现象出现
微结痂现象,无渗出液
可正常洗脸、上妆
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