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C4F8

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C4F8

HALOCARBON c318 (C4F8) Octafluorocyclobutane Application Halocarbon c318 is used for a chamber

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HALOCARBON c318 (C4F8)
Octafluorocyclobutane

Application
Halocarbon c318 is used for a chamber cleaning gas for semiconductor industry. C4F8 is used for the replacement of conventional chamber cleaning gas such as C2F6. It is also used as etching gas in semiconductor and DRAM processes.

Production Specification
Purity        99.999%       99.995%
N2                     3                   8
O2                     1                   2
OHC                 4                   10
HF                   0.1                0.1
H2O                  1                   1
*Unit: ppm

Package
Cylinder
8L ~ 50L Steel Seamless Cylinder
1000L Steel Cylinder

Valve
Standard CGA valve
DISS valve


#C4F8#CVD#Chamber#Clean#Etch#Fluorocarbon#網路行銷#法文翻譯#雷射切割加工
https://www.66webseo.com/web/QA?postID=398484S-22

產品名稱：S-22 外觀：透明澄清液 適用材質：鐵金屬、非鐵金屬及玻璃、陶瓷 產品

企業名片

  • 公司名稱:元佳宇有限公司
  • 連絡電話:07-6******
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